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域名信息 |
注册人/机构:
浙江斯凯沃微电子有限公司
注册人邮箱:
*****mems06@yahoo.com
域名年龄:
9个月28天(过期时间为2026年12月14日)
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备案信息 | 备案号:浙ICP备2024102098号 名称: 浙江斯凯沃微电子有限公司 性质:企业 审核时间:2024-06-12 更新 | |
网站信息 |
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标题(Title) | 15 个字符(一般不超过80个字符) |
浙江斯凯沃微电子有限公司-首页
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关键词(KeyWords) | 42 个字符(一般不超过100个字符) |
浙江斯凯沃微电子有限公司,化学机械CMP抛光液,三维光学形貌仪,化学机械CMP抛光机
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描述(Description) | 371 个字符(一般不超过200个字符) |
浙江斯凯沃微电子有限公司主要产品为化学机械cmp抛光液、三维光学形貌仪、化学机械cmp抛光机,化学机械抛光(cmp)是集成电路制造过程中实现全局平坦化的关键工艺,化学机械抛光液是化学机械抛光工艺过程中使用的主要材料,化学机械抛光机是专为晶圆抛光工艺设计的专业小型研发台式设备,占地面积小但功能强大,且实用性强,主要用于半导体微电子领域化学机械抛光工艺研究、抛光液、抛光垫、修正器、清洗液等cmp耗材性能测试和材料研发。三维光学形貌仪集成白光干涉和转盘式共聚焦两种测量技术,同时具有亮场成像、暗场成像、光学变焦多种成像模式,可实现从纳米到微米尺度的非接触式表面测量。主要用于材料、涂层、器件的高精度三维表面特征测量。适用于粗糙、光滑、坚硬、柔软、黏性等各种表面,以及金属材料、非金属材料、复合材料、薄膜、涂层等不同材料表面微观结构特征的3d成像
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