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| SEO信息 |
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| 域名信息 |
注册人/机构：
浙江斯凯沃微电子有限公司
注册人邮箱：
*****mems06@yahoo.com
域名年龄：
6个月24天（过期时间为2026年12月14日)
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| 备案信息 | 备案号：浙ICP备2024102098号 名称： 浙江斯凯沃微电子有限公司 性质：企业 审核时间：2024-06-12 更新 | |
| 网站信息 |
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| 标题（Title） | 15 个字符（一般不超过80个字符） |
浙江斯凯沃微电子有限公司-首页
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| 关键词（KeyWords） | 42 个字符（一般不超过100个字符） |
浙江斯凯沃微电子有限公司,化学机械CMP抛光液,三维光学形貌仪,化学机械CMP抛光机
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| 描述（Description） | 371 个字符（一般不超过200个字符） |
浙江斯凯沃微电子有限公司主要产品为化学机械cmp抛光液、三维光学形貌仪、化学机械cmp抛光机，化学机械抛光（cmp）是集成电路制造过程中实现全局平坦化的关键工艺，化学机械抛光液是化学机械抛光工艺过程中使用的主要材料，化学机械抛光机是专为晶圆抛光工艺设计的专业小型研发台式设备，占地面积小但功能强大，且实用性强，主要用于半导体微电子领域化学机械抛光工艺研究、抛光液、抛光垫、修正器、清洗液等cmp耗材性能测试和材料研发。三维光学形貌仪集成白光干涉和转盘式共聚焦两种测量技术，同时具有亮场成像、暗场成像、光学变焦多种成像模式，可实现从纳米到微米尺度的非接触式表面测量。主要用于材料、涂层、器件的高精度三维表面特征测量。适用于粗糙、光滑、坚硬、柔软、黏性等各种表面，以及金属材料、非金属材料、复合材料、薄膜、涂层等不同材料表面微观结构特征的3d成像
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