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注册人/机构:
沈阳腾鳌真空技术有限公司
注册人邮箱:
***a_cl@163.com
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标题(Title) | 66 个字符(一般不超过80个字符) |
沈阳腾鳌真空技术有限公司_薄膜制备设备,磁控溅射镀膜系统,离子束溅射镀膜系统,蒸发镀膜系统,脉冲激光溅射沉积系统,合场发射测试...
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关键词(KeyWords) | 104 个字符(一般不超过100个字符) |
薄膜制备设备,磁控溅射镀膜系统,离子束溅射镀膜系统,蒸发镀膜系统,脉冲激光溅射沉积系统,合场发射测试系统,高真空电子束蒸发,磁控溅射镀膜系统,阴极制备设备,沉积注入设备,同步辐射光束线设备,纳米制粉及熔炼设备
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描述(Description) | 121 个字符(一般不超过200个字符) |
沈阳腾鳌真空技术有限公司,由从事多年真空设备技术研制开发工作的研究员、新时代高级工程师、工程师组成的一支技术实力雄厚、充满活力的高素质腾鳌真空队伍,伴着严谨的内部项目实施管理控制流程,确保每一项真空设备的工艺技术先进性和质量的优佳性、可靠性。
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