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Alibaba Cloud Computing Ltd. d/b/a HiChina (www.net.cn)
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备案信息 | 备案号:京ICP备20021749号 名称: 北京三和联科技有限公司 性质:企业 审核时间:2020-06-15 更新 | |
网站信息 |
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标题(Title) | 3 个字符(一般不超过80个字符) |
三和联
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关键词(KeyWords) | 27 个字符(一般不超过100个字符) |
北京三和联科技有限公司 ,三和联科技, 北京三和联科技
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描述(Description) | 188 个字符(一般不超过200个字符) |
北京三和联,基于在真空、材料以及半导体设备方面的技术累计,可提供先进的材料刻蚀、材料生长与器件表面处理设备;主要产品包括反应离子刻蚀(RIE),电感耦合反应离子刻蚀(ICP-RIE),等离子体增强化学气相沉积(PECVD),物理气相沉积(PVD),等离子体表面处理(Plasma Treatment)等,应用领域涉及硅基材料、化合物半导体材料、以及二维电子薄膜材料相关的应用。
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